生產遙測與性能看板

即時監測全球光刻系統的運行狀態與工藝參數。

系統連線中 | 2026.04.14 14:30:00
雷射功率穩定性 (Laser Power)
485.2 W
疊對誤差分佈 (Overlay Quiver)
0.82 nm
晶圓曝光熱力圖 (Wafer Heatmap)
98.5%
設備健康看板 (Equipment Health)
組件名稱 當前狀態 運行時數 維護預測
錫液滴產生器 (Droplet Generator) NORMAL 1,240 hrs In 260 hrs
真空室壓強 (Vacuum Chamber) STABLE 8,760 hrs In 1,200 hrs
反射鏡污染監控 (Mirror Contamination) CLEANING REQ 450 hrs Immediate
主動式隔震系統 (Vibration Isolation) ACTIVE 12,000 hrs In 5,000 hrs
曝光能量分佈分析

模擬展示在不同劑量 (Dose) 設定下的圖案關鍵尺寸穩定性。

當前劑量設定:45 mJ/cm²