在極致純淨的環境中，守護每一顆原子的精確排列。
光刻艙內的顆粒度控制與化學濾過系統必須達到全球最嚴苛的 ISO Class 1 標準。這意味著每立方米空氣中，大於 0.1 微米的顆粒數必須少於 10 個。
採用多級活性炭與離子交換樹脂，確保光學元件表面不產生任何化學沉積物，延長反射鏡使用壽命。
VC-E/F Compliance Chart
主動式磁浮隔震系統能夠抵銷微小的地震波與環境噪聲。在奈米級曝光過程中，任何微小的振動都會導致圖案模糊。我們的系統將振動幅度控制在奈米級別，符合 VC-E/F 國際標準。
即時感應地面振動並產生反向作用力，抵銷 99.9% 的環境干擾。
曝光台與基座完全脫離物理接觸，實現零摩擦運動控制。
採用碳奈米管 (CNT) 或矽基材料，厚度僅為數十奈米，確保 EUV 光的高透光率。
在 500W 以上的光源功率下，防護膜需承受極高熱載荷而不變形。
經過嚴格的光學測試，確保防護膜對曝光能量的損耗降至最低。